EUV光刻機就是比DUV光刻機更加高級的，精度可以達到3納米，而DUV光刻機的精度只能到28納米，這是完全不同技術水平的設備，對于國內(nèi)的半導體來說，研發(fā)出EUV光刻機就相當于把一塊機械手表所有的零件扔到大會海里然后靠著海水的沖擊力將他自然還原的概率還要小。

周川說道：“那我們明天晚上見面聊聊吧！”

其實他主要是想跟李西妍見面，想看看美女，至于什么3納米光刻機，他根本就不聽進去。