1978年，1445所在GK-3的基礎(chǔ)上開發(fā)了GK-4，但還是沒有擺脫接觸式光刻機(jī)。

1980年，清華大學(xué)研制第四代分步式投影光刻機(jī)獲得成功，光刻精度達(dá)到3微米，接近國際主流水平。

1981年，華夏科學(xué)院半導(dǎo)體所研制成功JK-1型半自動接近式光刻機(jī)。

1982年，科學(xué)院109廠研制出了KHA-75-1光刻機(jī)，這些光刻機(jī)在當(dāng)時的水平均不低，最保守估計(jì)跟當(dāng)時最先進(jìn)的canon相比最多也就不到4年。